Phenom高分辨率專業(yè)版 Phenom Pro飛納臺(tái)式掃描電子顯微鏡 Pro 利用觀察氫氧化鉀蝕刻制備的硅微觀結(jié)構(gòu)有特定規(guī)范與標(biāo)準(zhǔn)，應(yīng)用于多個(gè)行業(yè)領(lǐng)域。點(diǎn)擊查看相關(guān)規(guī)范標(biāo)準(zhǔn)。

氫氧化鉀蝕刻 （KOH）是制造微型器件的一個(gè)重要工藝，用于從硅片上去除材料。選擇性地蝕刻硅片的某些部分，用一層二氧化硅或掩膜來保護(hù)剩下的部分。然而，殘留物的存在成為這種技術(shù)的一個(gè)缺點(diǎn)，因?yàn)樗鼤?huì)對(duì)器件的制造過程產(chǎn)生負(fù)面影響。在這篇博客中，我們提出了一種利用蝕刻殘留物的方法，將其作為后續(xù)蝕刻的掩膜，以制造兩層微結(jié)構(gòu)。我們還提供了如何有效地利用掃描電鏡SEM對(duì)這些微結(jié)構(gòu)進(jìn)行成像的例子。

飛納高分辨率專業(yè)版 Phenom Pro 是飛納電鏡系列中最先進(jìn)的產(chǎn)品，第六代 Phenom Pro 放大倍數(shù)提升為 350,000 倍，分辨率優(yōu)于 6 nm，30 秒快速得到表面細(xì)節(jié)豐富的高質(zhì)量圖像，是目前世界上分辨率最高的臺(tái)式掃描電鏡，可用于測量亞微米或納米尺度的樣品；飛納高分辨率專業(yè)版 Phenom Pro 繼承了飛納電鏡系列高分辨率、15 秒快速抽真空、不噴金觀看絕緣體、全自動(dòng)操作、2-3 年更換燈絲及防震設(shè)計(jì)等優(yōu)點(diǎn)。

飛納高分辨率專業(yè)版 Phenom Pro 可選配豐富的拓展功能選件，如 3D 粗糙度重建（3D Roughness Reconstruction）、纖維統(tǒng)計(jì)分析測量系統(tǒng)（FiberMetric）、孔徑統(tǒng)計(jì)分析測量系統(tǒng)（PoreMetric）、顆粒統(tǒng)計(jì)分析測量系統(tǒng)（ParticleMetric）、超大視野拼圖（Auto Image Mapping）、遠(yuǎn)程操作等。軟件可以自動(dòng)采集數(shù)據(jù)、處理圖片。比如，纖維統(tǒng)計(jì)測量系統(tǒng)可以自動(dòng)識(shí)別、測量纖維樣品，而大視野拼圖 則自動(dòng)采集生成高分辨、大視野的樣品全景照片，等等…

除此之外，還有各種各樣的樣品杯可供選擇，這些樣品杯使得樣品的裝載更加便利。無論是對(duì)于長軸狀樣品，還是生物材料，或者其它種類的材料，總有一款合適的樣品杯可以提供完美的解決方案。

Phenom Pro 主要技術(shù)參數(shù)

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注：該產(chǎn)品未在中華人民共和國食品藥品監(jiān)督管理部門申請(qǐng)醫(yī)療器械注冊和備案，不可用于臨床診斷或治療等相關(guān)用途